삼성전자는 31일 지난해 4분기 실적발표 컨퍼런스콜에서 “1Y 나노는 2017년 11월 양산에 성공했다”면서 “2019년 1X나노와 비트크로스를 목표로 램프업하고 있다”고 말했다.
이어 “제품별 시황과 10나노급 전반적 공정 상황 고려해 캐파를 운영하겠다”고 덧붙였다.
또 “11라인 일부 생산능력을 전환하는 과정에서의 캐파 로스(loss)나 수요 증가에 대해 1X 나노의 수율을 높이는 등 전반적으로 노력하고 있다”면서 “평택 라인 운영은 D램 시황에 맞게 탄력적으로 투자를 해서 D램 비트(bit) 수요에 대응하려고 노력하고 있다”고 설명했다.
이어 “제품별 시황과 10나노급 전반적 공정 상황 고려해 캐파를 운영하겠다”고 덧붙였다.
또 “11라인 일부 생산능력을 전환하는 과정에서의 캐파 로스(loss)나 수요 증가에 대해 1X 나노의 수율을 높이는 등 전반적으로 노력하고 있다”면서 “평택 라인 운영은 D램 시황에 맞게 탄력적으로 투자를 해서 D램 비트(bit) 수요에 대응하려고 노력하고 있다”고 설명했다.
뉴스웨이 한재희 기자
han324@newsway.co.kr
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