삼성전자, 올해 반도체 시설투자 14조5000억원 쏟아···세계 1위

등록 2017.03.07 10:03

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삼성전자 화성사업장 메모리반도체 생산라인. 사진=삼성전자 제공

삼성전자가 작년에 이어 올해도 반도체 업계 가운데 가장 많은 시설투자에 나설 것으로 전망된다.

7일 시장조사기관 IC인사이츠에 따르면 삼성전자 반도체 부문의 올해 시설투자(CAPEX) 전망치는 125억달러(약 14조5000억원)로 전년 대비 11% 늘어날 것으로 예상된다. 지난해에는 전년보다 13% 줄어든 113억달러를 투자한 바 있다.

SK하이닉스의 올해 시설투자 전망치 규모는 60억달러(약 7조원)로 세계 4위에 해당한다. 지난해에는 전년보다 14% 줄어든 51억8800만달러(약 6조5000억원)를 집행했다.

삼성전자와 SK하이닉스의 지난해 시설투자 감소는 D램 시장의 약세 때문이었다. 하지만 작년 하반기부터 D램 시장이 호황으로 돌아서면서 올해 투자를 늘릴 것으로 보인다.

현재 삼성전자는 경기도 평택에 세계 최대 규모인 반도체단지를 짓고 있으며 올해 중반부터 V-낸드를 양산할 계획이다.

SK하이닉스의 올해 시설투자 증가분은 경기도 이천 공장 M14의 클린룸 건설과 관련 인프라 등에 쓰인다.

세계 최대 마이크로프로세서 제조 기업인 인텔의 올해 시설투자액은 120억달러(약 14조원)로 삼성전자에 이어 2번째로 많다. 인텔은 지난해에도 전년 대비 투자액을 31% 늘렸는데 올해도 25%나 늘릴 것으로 예상된다.

세계 최대 반도체 수탁생산(파운드리) 업체인 대만 TSMC는 작년보다 2% 줄어든 100억달러(약 11조6000억원) 투자에 나설 것으로 예상된다.

한편 메모리와 비메모리(시스템 반도체 등)를 아우르는 종합반도체 순위에서 인텔과 삼성전자, TSMC가 1∼3위를 차지하고 있다.